原子沉積系統ALD

標準型（Standard ）設備

價格(ge)低、質量高、可任選附(fu)件進行搭配

結構簡(jian)單，操作方便(bian)，后期維護簡(jian)單易行

用途廣(guang)，適合各種基底(di)材料

原子沉積系統ALD ——擴展型（Flexivol）設備

腔(qiang)室體(ti)積可(ke)根據用(yong)戶樣品(pin)的(de)尺寸靈活調(diao)(diao)節，同一腔(qiang)室可(ke)通(tong)過簡單的(de)調(diao)(diao)節適(shi)用(yong)于不同厚度的(de)樣品(pin)

增多前(qian)驅(qu)體(ti)源入口數目，避免腔室體(ti)積增大(da)對前(qian)驅(qu)體(ti)化(hua)學源氣氛分布(bu)的影響

ALD原子層沉積系統——高度定制化(hua)（Non-Standard）設(she)備

為工業客戶提供薄膜(mo)沉積方案(an)

放大(da)基于標準研究型設備檢驗(yan)的相同技術

根(gen)據客戶(hu)的特(te)殊需求，加工定制(zhi)，滿足特(te)殊應用及大規模的生產(chan)需要

研發(fa)（R&D）服務

開(kai)發新的薄膜沉(chen)積方案

診斷(duan)、改進現(xian)有ALD的(de)工(gong)藝

為(wei)潛在的客戶做覆膜演示(shi)

薄膜沉(chen)積工(gong)藝咨詢

原子層沉積系統ALD技術(shu)參數(shu)

不銹鋼材質腔室(shi)，根據客(ke)戶(hu)樣品尺寸有不同的腔室(shi)直徑（D < 200 mm, D = 200 mm, D > 200 mm）和高度（H = 20 mm, H = 50 mm）可選；前(qian)(qian)驅(qu)體進(jin)樣系統標配四路（包含冷和熱兩種前(qian)(qian)軀(qu)體），可配至八路

前驅體進樣系統配有快速(su)氣(qi)動(dong)閥門(men)

多段溫度控(kong)制

前驅(qu)體溫(wen)控(kong)0-200 °C，精度1 °C

腔室溫控0-300 °C ，精度(du)1 °C

進出(chu)腔室(shi)管路溫控0-150 °C ，精度1 °C

基(ji)本壓強　10^−1/10^−3 mbar

設備尺寸(cun)　1000x600x1000 mm

觸控(kong)控(kong)制系統

系統當(dang)前(qian)狀態信息(xi)顯示：氣流速度、溫度、壓力(li)和閥門開度等

工藝監(jian)控：溫(wen)度和(he)壓力等

偏差報警(jing)和安(an)全鎖(suo)

菜單(dan)操作，實(shi)時監控(kong)

可增配選項(xiang)

等(deng)離子體(ti)(ti)發生器(qi)    借(jie)助等(deng)離子化(hua)的氣態原子替(ti)代水作(zuo)為氧化(hua)物來增強ALD性(xing)能(neng)

臭氧發生器         提(ti)供強氧化劑(ji)，增大ALD生(sheng)長的前驅體選擇范(fan)圍

石英晶體微天(tian)平    在線監測薄膜沉積的厚度

愛譜斯中國有限公(gong)司(si)是(shi)一家(jia)專(zhuan)業(ye)儀器制(zhi)造及(ji)銷(xiao)售公(gong)司(si)，公(gong)司(si)業(ye)務主要(yao)為(wei)進口儀器設備，涉(she)及(ji)化學(xue)，材料，環境，生命科(ke)學(xue)等各個(ge)學(xue)科(ke)。公(gong)司(si)始終把客戶的(de)需求與產品(pin)質量放在*，專(zhuan)業(ye)的(de)售后服(fu)務團(tuan)隊，歡迎(ying)廣大(da)客戶咨詢！