原子沉積系統ALD

標準型（Standard ）設備

價格低、質量高(gao)、可任選附件進行搭配

結構簡單，操作方便，后期維護簡單易行(xing)

用途廣，適合各種基底材料

原子沉積系統ALD ——擴展型（Flexivol）設備

腔室體積可根據用(yong)戶樣品(pin)的尺寸靈(ling)活調(diao)節，同(tong)一腔室可通過(guo)簡單的調(diao)節適用(yong)于(yu)不同(tong)厚度的樣品(pin)

增多前驅(qu)體(ti)源入口(kou)數(shu)目，避免腔室(shi)體(ti)積(ji)增大對(dui)前驅(qu)體(ti)化學源氣(qi)氛分布的影響(xiang)

ALD原子層沉積系統——高(gao)度定制化(hua)（Non-Standard）設備(bei)

為(wei)工業客戶提(ti)供薄膜(mo)沉(chen)積方(fang)案

放大基于標準研究(jiu)型設備檢(jian)驗的相同技術(shu)

根據(ju)客戶(hu)的特殊(shu)需(xu)求，加(jia)工定制，滿(man)足特殊(shu)應用及大規模的生產(chan)需(xu)要

研發(fa)（R&D）服務

開發新的薄膜沉積方(fang)案

診斷、改進現有ALD的(de)工藝

為潛在的客戶做(zuo)覆膜演示

薄膜沉積(ji)工(gong)藝咨詢

原子層沉積系統ALD技術(shu)參數

不(bu)銹鋼材質腔室(shi)，根據客戶樣品尺(chi)寸有(you)不(bu)同的腔室(shi)直(zhi)徑（D < 200 mm, D = 200 mm, D > 200 mm）和高度（H = 20 mm, H = 50 mm）可選(xuan)；前驅體進樣系統(tong)標(biao)配(pei)四路(lu)（包含冷和熱兩種前軀體），可配(pei)至八路(lu)

前驅體(ti)進樣系統配有快速氣動閥門(men)

多(duo)段溫(wen)度控制(zhi)

前驅體溫控0-200 °C，精度(du)1 °C

腔室溫控(kong)0-300 °C ，精(jing)度(du)1 °C

進(jin)出(chu)腔室管路(lu)溫(wen)控0-150 °C ，精度1 °C

基本壓強　10^−1/10^−3 mbar

設(she)備尺寸　1000x600x1000 mm

觸控控制系統

系(xi)統當前狀態信息(xi)顯示：氣(qi)流(liu)速度、溫度、壓力和閥門開度等

工藝監(jian)控：溫度和壓力等

偏差報(bao)警和安(an)全鎖

菜(cai)單操作(zuo)，實(shi)時監(jian)控

可增(zeng)配選項(xiang)

等(deng)離(li)子(zi)體發生器(qi)    借助等離子化的(de)氣態原子替代(dai)水作為氧化物來增(zeng)強ALD性能

臭氧發(fa)生(sheng)器         提供強氧化劑，增大ALD生長的前驅(qu)體選擇(ze)范圍

石英晶體微(wei)天平    在線監測(ce)薄膜沉積的厚度

愛(ai)譜斯中國有(you)限公(gong)(gong)司是(shi)一家專(zhuan)(zhuan)業儀器(qi)制造及銷售(shou)公(gong)(gong)司，公(gong)(gong)司業務主要為(wei)進口儀器(qi)設(she)備，涉及化學(xue)，材料(liao)，環境(jing)，生命科學(xue)等各個(ge)學(xue)科。公(gong)(gong)司始(shi)終(zhong)把客(ke)戶的需求與(yu)產(chan)品質量放(fang)在*，專(zhuan)(zhuan)業的售(shou)后服務團隊，歡迎廣(guang)大(da)客(ke)戶咨詢！